[19p-A2-1~17] 16.1 基礎物性・評価

[19p-A2-12] 光熱輻射分光法によるシリコン系薄膜の欠陥密度評価

^○（M2）石井克典，松田耀右，吉田憲充，野々村修一 (岐大院工)

キーワード：光熱輻射分光法,欠陥密度,シリコン系薄膜