[19p-C1-1~17] 8.1 プラズマ生成･制御

△ [19p-C1-10] 3D-ハイブリッドPIC/MCC法を用いた反応性プラズマ蒸着による膜厚分布の磁場依存性数値シミュレーション

^○宮下大，北見尚久，酒見俊之，青木康，加藤隆典 (住重技研)

キーワード：反応性プラズマ,ハイブリッドPIC/MCC,プラズマモデリング