13:00 〜 13:15
△ [19p-D3-1] HBT低ターン・オン電圧化のための高正孔濃度InGaAsSbのMOCVD成長
キーワード:インジウムガリウム砒素アンチモン,有機金属化学気相堆積,ヘテロ接合バイポーラトランジスタ
一般セッション(口頭講演)
15.結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶
2013年9月19日(木) 13:00 〜 17:45 D3 (MK 2F-201)
13:00 〜 13:15
キーワード:インジウムガリウム砒素アンチモン,有機金属化学気相堆積,ヘテロ接合バイポーラトランジスタ