PDF ダウンロード スケジュール 4 いいね! 0 13:30 〜 15:30 [19p-P8-1] イオンビームスパッタ蒸着法によるβ-FeSi2薄膜作製への蒸着速度の影響 ○濱本悟1,山口憲司2,北條喜一2 (茨大院理1,原子力機構2) キーワード:シリサイド半導体,環境半導体,表面処理