[20a-B4-1~11] 13.5 Siプロセス技術

[20a-B4-5] 集光型赤外線加熱炉を用いたハーフインチシリコンCVD装置

^○李寧¹，羽深等¹，池田伸一^2,3，石田夕起^2,3，原史朗^2,3 (横国大院工¹，産総研²，ミニマルファブ技術研究組合³)

キーワード：Minimal manufacturing