2013年第74回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[20a-D7-1~11] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年9月20日(金) 09:00 〜 12:00 D7 (MK 3F-302)

09:15 〜 09:30

[20a-D7-2] 窒化ガリウム表面の過剰酸化を抑制する洗浄液の検討

辻幸洋1,2,勝山造1,寺本章伸2,白井泰雪2,須川成利2,大見忠弘2 (住友電工1,東北大2)

キーワード:GaN,XPS