[20a-D7-1~11] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

△ [20a-D7-4] n-GaN上ALD-Al₂O₃膜に対する高圧水蒸気処理の効果

^○吉嗣晃治¹，梅原智明¹，堀田昌宏^1,2，石河泰明^1,2，浦岡行治^1,2 (奈良先端大¹，CREST²)

キーワード：高圧水蒸気処理,堆積後熱処理,原子層堆積法