[20p-B4-1~8] 13.5 Siプロセス技術

[20p-B4-4] Krガスを用いた積層シリサイド化スパッタプロセスにより形成したNiSi₂の薄膜評価

^○今村浩章¹，稲村太一¹，角嶋邦之²，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，若林整²，筒井一生²，名取研二¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

キーワード：積層シリサイド,Kr,シート抵抗