[20p-B4-1~8] 13.5 Siプロセス技術

[20p-B4-6] Sn/n型Geコンタクトにおけるショットキー障壁高さの低減

^○鈴木陽洋¹，朝羽俊介¹，横井淳¹，中塚理¹，黒澤昌志^1,2，坂下満男¹，田岡紀之¹，財満鎭明¹ (名古屋大院工¹，学振特別研究員²)

キーワード：Sn