[29p-PA9-1~23] 16.3 シリコン系太陽電池

2013年3月29日(金) 16:00 〜 18:00 PA9 (第一体育館)

ポスター掲示時間16:00〜18:00(PA会場)

△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
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[29p-PA9-1] 低融点金属触媒を用いたシリコンナノワイヤーの作製と評価 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○福永圭吾，畑山智亮，矢野裕司，岡本尚文，谷あゆみ，冬木隆 (奈良先端大)

[29p-PA9-2] ▲Grain Growth Behavior of Directionally Grown Multicrystalline Silicon (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○Ronit Prakash^1,2，宮村佳児¹，陳君¹，Karolin Jiptner^1,2，李建永³，原田博文¹，関口隆史^1,2 (物材機構¹，筑波大²，明大³)

[29p-PA9-3] ピラミッド凹凸面のキャリア濃度深さ方向分析：電子顕微鏡を用いた電解液容量電圧(ECV)法の較正 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○小松雄爾¹，原田大資^1,2，Erik W. Schuring¹，Ard H.G. Vlooswijk³，香取重尊²，藤田静雄²，Ilkay Cesar¹ (ECN(蘭)¹，京大工²，テンプレス(蘭)³)

[29p-PA9-4] 多結晶シリコン太陽電池における三フッ化塩素ガスによる拡散層形成後のテクスチャ化の検討(Ⅱ) (4:00 PM ～ 6:00 PM)

久保田祥，岩間恵人，^○渡邊良祐，齋藤洋司 (成蹊大院理工)

[29p-PA9-5] ClF3 プラズマレスドライエッチングを用いた単結晶Si 太陽電池のテクスチャ処理の最適化(Ⅰ) (4:00 PM ～ 6:00 PM)

宮坂吉徳，大島学，^○渡邊良祐，齋藤洋司 (成蹊大院理工)

[29p-PA9-6] スプレー熱分解法による結晶シリコン太陽電池用光反射防止膜の作製 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○原野敬久¹，伊藤省吾¹，原田富太郎² (兵県大工¹，大和産業²)

[29p-PA9-7] シリコン太陽電池の作製方法におけるインピーダンスデータの変化 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○神田広之¹，伊藤省吾¹，原田富太郎² (兵県大工¹，大和産業²)

[29p-PA9-8] シリカゾルによる結晶シリコン太陽電池不純物拡散量低減コーティングの効果 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○深津健¹，伊藤省吾¹，木村裕²，谷本健二² (兵県大工¹，日産化学工業²)

[29p-PA9-9] ポリビニルアルコールを用いたシリコン太陽電池用アルミニウムペーストの作製 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○野口卓馬¹，伊藤省吾¹，松岡敏文²，岡本博明³ (兵県大工¹，日本酢ビ・ポバール²，信越化学工業³)

[29p-PA9-10] SrSiO_x/Si 構造の熱安定性と電気特性の評価 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○（B）谷脇将太¹，豊島祐樹¹，堀田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，新船幸二^1,3，小椋厚志^1,2，佐藤真一^1,3 (兵庫県立大¹，明大²，JST-CREST³)

[29p-PA9-11] ▲Detailed Study on the c-Si Surface Passivation Mechanism of O3-Based Batch Atomic Layer Deposited AlOx for Solar Cell Applications (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○Hyunju Lee^1,4，立花福久^1,4，池野成裕^1,4，橋口裕樹^1,4，土屋佑樹^1,4，新船幸二^2,4，吉田晴彦^2,4，佐藤真一^2,4，知京豊裕³，小椋厚志^1,4 (明大¹，兵庫県立大²，物質・材料研究機構³，JST-CREST⁴)

[29p-PA9-12] 室温堆積ALD-AlO_x膜のパッシベーション特性に及ぼす初期酸化界面の影響 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○酒井智香子^1,3，山本俊輔^1,3，三木祥平^1,3，新船幸二^1,3，堀田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，小椋厚志^2,3，佐藤真一^1,3 (兵庫県立大¹，明大²，JST-CREST³)

[29p-PA9-13] UV 照射によるALD-AlO_x 膜のパッシベーション特性変化 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

酒井智香子^1,3，漆畑孝^1,3，^○三木祥平^1,3，新船幸二^1,3，堀田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，小椋厚志^2,3，佐藤真一^1,3 (兵庫県立¹，明大²，JST-CREST³)

[29p-PA9-14] MBE法を用いたSiGe系太陽電池の素子化と基礎特性 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○村中将紀，須田良幸 (農工大院工)

[29p-PA9-15] MBE法により成長したSiO_x膜の電気的特性 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○（PC）藤田実樹^1,2，北田剛¹，近藤稔¹，河原塚篤^1,2，堀越佳治^1,2 (早大理工¹，CREST²)

[29p-PA9-16] Magnetron sputter法で作製したSi/SiO2薄膜の基礎特性 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○竹内登志男，河原塚篤，藤田実樹，井上智矢，堀越佳治 (早大)

[29p-PA9-17] 酸化グラフェンをテンプレートに利用した薄膜SiおよびAZO剥離転写 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○渡辺恭平，越野秀人，石川良，上野啓司，白井肇 (埼玉大理工研)

[29p-PA9-18] 表面修飾基を持たないP,B同時ドープSiナノ結晶コロイド (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○杉本泰¹，長谷川正高¹，藤井稔¹，今北健二¹，林真至¹，赤松謙祐² (神戸大院工¹，甲南大フロンティアサイエンス学部²)

[29p-PA9-19] a-Siフレキシブル太陽電池セルの単軸引張による損傷のAE法とロックインサーモグラフィを用いた評価 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○田澤博幸，坂井建宣，若山修一 (首都大)

[29p-PA9-20] 白色光照射下のレーザーテラヘルツエミッション顕微鏡による太陽電池局所特性評価 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○中西英俊¹，伊藤明¹，Salek Khandoker²，高山和久²，川山巌²，村上博成²，斗内政吉² (大日本スクリーン製造¹，阪大レーザー研²)

[29p-PA9-21] 高体積抵抗率を有する封止材による太陽電池モジュールの漏れ電流抑制とPID対策 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○竹田悠太，下木有生 (デュポン)

[29p-PA9-22] フォトン・フォトキャリア直交型マルチストライプ半導体太陽電池のSiベース無機半導体での展開 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○石橋晃¹，佐藤和彦²，河西剛¹，近藤憲治¹，海住英生¹ (北大電子研¹，帝人構造解析研²)

[29p-PA9-23] 太陽光スペクトルの変動を考慮した最適なバンドギャップの検討 (4:00 PM ～ 6:00 PM)

^○稲村太一¹，角嶋邦之²，Ahmet Parhat¹，片岡好則²，西山彰²，杉井信之²，筒井一生²，名取研二¹，服部健雄¹，岩井洋¹ (東工大フロンティア研¹，東工大総理工²)

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