English Session
English presentations will be held in the following 6 sessions.
| 1. | 『6.4 New thin-film materials』 | |
| 3/29 10:00～15:45 Room F1(E3 Bldg. 1Ｆ-102) | ||
| 2. | 『8.1 Plasma production and control』 | |
| 3/29 15:30～16:30 Room B9(K2 Bldg. 4F-1407) | ||
| 3. | 『8.2 Plasma measurements and diagnostics』 | |
| 3/29 16:30～17:15 Room B9(K2 Bldg. 4F-1407) | ||
| 4. | 『8.6 General plasma phenomena, emerging area of plasmas and their new applications』 | |
| 3/29 13:30～15:15 Room B9(K2 Bldg. 4F-1407) | ||
| 5. | 『2nd International Symposium on Oxide Nanocomposites and Heterostructures』 | |
| 3/28 13:45～16:30 Room F1(E3 Bldg. 1Ｆ-102) | ||
| 6. | 『Present and future of CMOS/MEMS integration』 | |
| 3/27 13:30～16:15 Room G9(B5 Bldg. 2F-2203） |
English presentations are recommended in the following 4 sessions.
| 1. | 『10.1 Creation of new materials』 | |
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3/29 9:30～12:00 Room A7(K1 Bldg. 3F-306)
3/30 9:00～15:00 Room A7(K1 Bldg. 3F-306)
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| 2. |
3/28 9:00～15:00 Room A7(K1 Bldg. 3F-306)
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| 3. |
3/29 9:00～12:00 Room A8(K1 Bldg. 6F-602)
3/30 9:00～11:45 Room A8(K1 Bldg. 6F-602)
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| 4. | 『10.4 Semiconductors, organic, optical and quantum spintronics』 | |
| 3/28 10:00～17:30 Room A8(K1 Bldg. 6F-602) | ||