[27a-G10-1~3] 半導体モデリング・シミュレーションの現状と将来展望

[27a-G10-2] モンテカルロ法による微細金属配線抵抗のモデリング（30分） (11:00 AM ～ 11:30 AM)

^○来栖貴史，谷本弘吉，和田真，磯林厚伸，梶田明弘，青木伸俊，豊島義明 (東芝 S&S社)

キーワード：モンテカルロ法、電気抵抗率の細線効果、Line-Edge Roughness