[27p-A7-1~17] 8.3 プラズマ成膜･表面処理

[27p-A7-9] △プリンタブルエレクトロニクスに向けたプラズマ励起ミスト化学気相堆積技術に関する研究 (3:45 PM ～ 4:00 PM)

^○（M1）孫昿達¹，竹田圭吾¹，伊藤仁^1,2，近藤博基¹，石川健治¹，関根誠¹，堀勝¹ (名大院工¹，東京エレクトロン²)

キーワード：Printable Electronics、絶縁膜製膜、ミストCVD