[28a-F2-1~11] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[28a-F2-6] △NdNiO₂エピタキシャル薄膜の作製と物性評価 (11:15 AM ～ 11:30 AM)

^○小野塚智也¹，近松彰^1,2，片山司¹，重松圭¹，福村知昭^1,2，長谷川哲也^1,2,3 (東大理¹，JST-CREST²，KAST³)

キーワード：ニッケル酸化物薄膜、パルスレーザー堆積法、トポタクティック還元