[28a-G2-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[28a-G2-2] △フルオロカーボンラジカルによるシリコン酸化膜SiO₂エッチングプロセスへの量子分子動力学法アプローチ (10:15 AM ～ 10:30 AM)

^○（M2）伊藤寿¹，桑原卓哉¹，石川岳志¹，樋口祐次¹，尾澤伸樹¹，寒川誠二²，久保百司¹ (東北大院工¹，東北大流体研²)

キーワード：エッチング、シリコン酸化膜、シミュレーション