[28a-G2-1~12] 13.3 絶縁膜技術

[28a-G2-7] △cubic相HfO₂薄膜の室温における安定化機構の検討 (11:45 AM ～ 12:00 AM)

^○岩井貴雅，矢嶋赳彬，西村知紀，長汐晃輔，鳥海明 (東大院工)

キーワード：HfO2、High-k、相変態