2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15.結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[28a-G21-1~11] 15.4 III-V族窒化物結晶

2013年3月28日(木) 09:00 〜 12:00 G21 (B5号館 4F-2405)

[28a-G21-5] ストライプ状SiO2マスクを用いた大口径半極性面GaNの高品質化 (10:00 AM ~ 10:15 AM)

古家大士,橋本健宏,上野元久,山根啓輔,岡田成仁,只友一行 (山口大理工学研究科)

キーワード:GaN、Large diameter、SiO2 mask