[28a-G9-1~11] 13.6 Siデバイス／集積化技術

[28a-G9-5] 硝酸酸化（NAOS）膜の超低消費電力型ガラス基板上CPUや恒久保存メモリ「デジタルロゼッタストーン」への応用 (10:00 AM ～ 10:15 AM)

^○松本健俊，赤井智喜，今井繁規，小林光 (阪大産研、CREST-JST)

キーワード：硝酸、シリコン、メモリ