2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[28p-G11-1~18] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:45 G11 (B5号館 2F-2205)

[28p-G11-1] 高誘電率パシベーション膜を有するAlGaN/GaN HEMTの耐圧向上の解析 (2:00 PM ~ 2:15 PM)

塙秀之,中島敦,堀尾和重 (芝浦工大システム工)

キーワード:GaN、HEMT、耐圧