2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

14.半導体B(探索的材料・物性・デバイス) » 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[28p-G11-1~18] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

2013年3月28日(木) 14:00 〜 18:45 G11 (B5号館 2F-2205)

[28p-G11-14] Snイオン注入を用いたβ-Ga2O3へのオーミックコンタクト形成 (5:30 PM ~ 5:45 PM)

佐々木公平1,2,東脇正高2,3,倉又朗人1,増井建和4,山腰茂伸1 (タムラ製作所1,情通機構2,JSTさきがけ3,光波4)

キーワード:Ga2O3、酸化ガリウム、酸化ガリウム