[28p-G2-1~16] 13.3 絶縁膜技術

[28p-G2-3] 球面収差補正（Cs-corrected）STEM-EELSによる金属電極/GeO2絶縁膜界面反応の解析 (3:00 PM ～ 3:15 PM)

^○小川慎吾^{1, 2}，秀島伊織²，箕浦佑也²，木村耕輔¹，川崎直彦¹，安居麻美¹，宮田洋明¹，山元隆志¹，細井卓治²，志村考功²，渡部平司² (TRC¹，阪大院工²)

キーワード：GeO2、STEM