[28p-G2-1~16] 13.3 絶縁膜技術

[28p-G2-8] HfO₂/Ge界面へのGeN_x拡散防止膜導入の検証 (4:15 PM ～ 4:30 PM)

^○黒柳洋真，中谷友哉，岩崎好孝，上野智雄 (東京農工大・工)

キーワード：半導体