2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15.結晶工学 » 15.6 IV族系化合物

[28p-G22-1~19] 15.6 IV族系化合物

2013年3月28日(木) 13:45 〜 18:45 G22 (B5号館 4F-2406)

[28p-G22-2] ▼Impacts of hydrogen annealing induced mobile ions on thermal SiO2/SiC interface property (2:00 PM ~ 2:15 PM)

○(D)Atthawut Chanthaphan1,箕谷周平2,中野佑紀2,中村孝2,細井卓治1,志村考功1,渡部平司1 (阪大院工1,ローム2)

キーワード:SiC、MOS、mobile ion