[28p-G6-1~17] 13.5 Siプロセス技術

[28p-G6-4] プラズマCVDによるSi上のSiO₂成膜における表面処理効果 (2:45 PM ～ 3:00 PM)

^○川嶋智仁，片岡淳司，薮原秀彦 (東芝生産技術センター)

キーワード：プラズマCVD