PDF ダウンロード スケジュール 0 いいね! 0 [28p-PA2-1] スパッタエピタキシー法を用いたGe薄膜形成におけるボロンドープSi基板の効果 (1:30 PM ~ 3:30 PM) ○塚本貴広1,広瀬信光2,笠松章史2,三村高志2,松井敏明2,須田良幸1 (東京農工大院工1,情報通信研究機構2) キーワード:ゲルマニウム