2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16.非晶質・微結晶 » 16.2 プロセス技術・デバイス

[29a-A3-1~7] 16.2 プロセス技術・デバイス

2013年3月29日(金) 10:15 〜 12:00 A3 (K1号館 2F-201)

[29a-A3-6] △酸化物薄膜トランジスタの自己発熱効果における熱劣化解析 (11:30 AM ~ 11:45 AM)

浦川哲1,笘井重和2,上岡義弘1,山﨑はるか1,笠見雅司2,矢野公規2,Wang Dapeng3,古田守3,堀田昌宏1,4,石河泰明1,4,浦岡行治1,4 (奈良先端大1,出光興産2,高知工科大3,CREST4)

キーワード:薄膜トランジスタ、酸化物半導体、発熱解析