[29a-G11-1~8] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[29a-G11-8] △GaAs系デバイスにおける裏面Cuめっき技術 (11:15 AM ～ 11:30 AM)

^○津波大介，西沢弘一郎，志賀俊彦，奥友希，竹見政義 (三菱電機)

キーワード：化合物半導体、銅、めっき