2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

12.有機分子・バイオエレクトロニクス » 12.1 作製技術

[29a-G14-1~10] 12.1 作製技術

2013年3月29日(金) 09:00 〜 11:45 G14 (B5号館 3F-2302)

[29a-G14-3] ナノミスト堆積法(多電極型静電塗布法)による低分子α-NPD薄膜堆積における基板温度制御効果 (9:30 AM ~ 9:45 AM)

入江崇之1,西大紀1,風間みなみ1,菊池昭彦1,2 (上智大理工1,上智ナノテクセンター2)

キーワード:静電塗布、ナノミスト、α-NPD