[29p-A3-1~6] 16.2 Processing technologies and devices

[29p-A3-5] Formation of a hydrogenated amorphous silicon film by a slit-coating method

^○Hideyuki Takagishi^1,3, Yasuo Matsuki^2,4, Takashi Masuda^1,4, Zhongrong Shen^1,3, Lam Pham Tien^1,3, Keisuke Ohdaira^1,3, Tatsuya Shimoda^1,3,4 (JAIST¹, JSR², JST ALCA³, JST ERATO⁴)

Keywords:アモルファスシリコン薄膜、スリットコート法、液体シリコン材料