[29p-B1-1~20] 7.4 ナノインプリント

[29p-B1-15] X線光電子分光法によるフッ素系添加剤含有UVナノインプリントレジストの深さ方向分析 (5:15 PM ～ 5:30 PM)

^○（B）大山貴弘^1,3，岡田真^1,3，伊吉就三^1,3，春山雄一^1,3，三宅弘人²，水田智也²，松井真二^1,3 (兵庫県立大¹，ダイセル²，JST-CREST³)

キーワード：ナノインプリント、レジスト、フッ素