[29p-B2-1~18] 7.6 イオンビーム一般

[29p-B2-15] イオン照射法による透明フレキシブル基板上へのアスペクト比制御リップル構造の形成 (5:15 PM ～ 5:30 PM)

^○岡部晋宜，中森弘明，棚瀬友晴，土屋琢磨，野田匠利，Golap Kalita，種村眞幸 (名工大院工)

キーワード：ripple、透明電極、イオン照射