2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

07.ビーム応用 » 7.6 イオンビーム一般

[29p-B2-1~18] 7.6 イオンビーム一般

2013年3月29日(金) 13:30 〜 18:15 B2 (K2号館 3F-1302)

[29p-B2-17] イオンビームを利用した高配向β-FeSi2薄膜作製における照射の影響 (5:45 PM ~ 6:00 PM)

濱本悟1,2,山口憲司2,北條喜一2 (茨城大1,原子力機構2)

キーワード:sputter etching、ion irradiation、thin film