2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

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シンポジウム » ・シリコン系薄膜形成技術の新展開

[29p-B8-1~10] シリコン系薄膜形成技術の新展開

2013年3月29日(金) 13:30 〜 17:45 B8 (K2号館 4F-1406)

[29p-B8-8] △ブルーレーザアニールによるSi膜中のスパッタリングガスの挙動 (5:00 PM ~ 5:15 PM)

西ノ原拓磨,知念怜,岡田竜弥,野口隆 (琉球大工)

キーワード:スパッタ、BLDA、EDX