[29p-F2-1~19] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[29p-F2-3] ハイブリッド対向スパッタによるSi-Ti傾斜型組成薄膜作製の検討 (2:30 PM ～ 2:45 PM)

^○諸橋信一，葛尾寛之，岡田智之，岸本堅剛，原田直幸 (山口大工)

キーワード：ハイブリッド対向スパッタ、傾斜型組成薄膜、Sputtering