[29p-PB1-1~20] 13.3 絶縁膜技術

[29p-PB1-20] 極薄絶縁膜の導入によるAu/Ge界面反応の抑制とフェルミレベルピンニングとの相関 (1:30 PM ～ 3:30 PM)

^○西村知紀^1,2，長汐晃輔^1,2，喜多浩之^1,2，鳥海明^1,2 (東大院工¹，JST-CREST²)

キーワード：フェルミレベルピンニング