2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.4 配線技術

[29p-PB2-1~3] 13.4 配線技術

2013年3月29日(金) 13:30 〜 15:30 PB2 (第二体育館)

[29p-PB2-1] O2およびN2を添加した高真空スパッタ法でのCuの濡れ性の改善 (1:30 PM ~ 3:30 PM)

伊藤勝利,飯田浩幸,斉藤茂 (東理科大工)

キーワード:Cu配線、sputtering、ruthenium