[30a-F1-1~13] 6.4 薄膜新材料

[30a-F1-1] HfO2/SiO2及びY2O3/SiO2構造の作製条件最適化 (9:00 AM ～ 9:15 AM)

^○（B）豊嶋祐樹¹，谷脇将太¹，掘田育志^1,3，吉田晴彦^1,3，新船幸二^1,3，小椋厚志^2,3，佐藤真一^1,3 (兵庫県立大¹，明大²，JST-CREST³)

キーワード：PLD、界面双極子、high-k材料