[30a-F1-1~13] 6.4 薄膜新材料

[30a-F1-3] PLD法によるSrOバッファー層を用いたSrTiO₃薄膜のSi基板上への直接成長 (9:30 AM ～ 9:45 AM)

^○（B）佐々木翼，今中淳弘，堀田育志，佐藤真一 (兵庫県立大)

キーワード：Si、STO、バッファー層