[30a-F1-1~13] 6.4 薄膜新材料

[30a-F1-4] O₂導入スパッタ法により形成したAl添加CeO₂薄膜の電気特性評価 (9:45 AM ～ 10:00 AM)

^○野谷祐貴¹，蒲田大生¹，岡崎拓也¹，原健太¹，鈴木摂²，石橋啓次²，山本康博¹ (法政大¹，コメット²)

キーワード：high-k、CeO2