2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[30a-F2-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2013年3月30日(土) 09:00 〜 11:45 F2 (E3号館 3F-303)

[30a-F2-5] AFM電界酸化法を用いた超微細横型抵抗変化メモリの作製と動作特性 (10:00 AM ~ 10:15 AM)

木下健太郎1,2,福原貴博1,岸田悟1,2 (鳥取大工1,鳥取大工ディスプレイセンター2)

キーワード:ReRAM、AFM電界酸化法、雰囲気依存