PDF ダウンロード スケジュール 1 いいね! 0 [30p-G6-5] 新規コバルトアミジネート原料を用いた低抵抗Co成膜 (2:30 PM ~ 2:45 PM) ○河野有美子2,町田英明1,石川真人1,須藤弘1,岩井和俊2,廣田良浩2 (気相成長1,東京エレクトロン2) キーワード:cobalt、interconnect、CVD