2013年 第60回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.4 配線技術

[30p-G6-1~6] 13.4 配線技術

2013年3月30日(土) 13:30 〜 15:00 G6 (B5号館 1F-2106)

[30p-G6-5] 新規コバルトアミジネート原料を用いた低抵抗Co成膜 (2:30 PM ~ 2:45 PM)

河野有美子2,町田英明1,石川真人1,須藤弘1,岩井和俊2,廣田良浩2 (気相成長1,東京エレクトロン2)

キーワード:cobalt、interconnect、CVD