[17a-C5-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶

[17a-C5-3] 反応性プラズマ支援成膜法により形成したBN膜の構造と機械特性 —基板バイアス電圧依存性—

^○野間正男¹，山下満²，江利口浩二³，長谷川繁彦⁴ (神港精機¹，兵庫工試²，京大院工³，阪大産研⁴)

キーワード：窒化ホウ素,基板バイアス,薄膜