2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

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シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 界面ナノ電子化学: 半導体ウェットプロセスの最前線

[17p-A14-1~12] 界面ナノ電子化学: 半導体ウェットプロセスの最前線

2014年9月17日(水) 13:30 〜 17:30 A14 (E305)

16:15 〜 16:30

[17p-A14-8] 半導体プロセスを用いたナノギャップ電極の作製

吉水康人,田中裕介,冨田寛 (東芝)

キーワード:ナノギャップ,ウェット,エッチング