[17p-A19-1~12] 絶縁膜上におけるⅣ族系半導体結晶薄膜の低温成長－新しい結晶成長技術への期待－

[17p-A19-2] ブルーレーザダイオードアニール法によるSiの低温結晶化とデバイス応用（30分）

^○野口隆¹，岡田竜弥² (琉球大学 工学部¹，琉球大学 工学部²)

キーワード：Laser Annealing,Si film,TFT