[17p-A19-1~12] 絶縁膜上におけるⅣ族系半導体結晶薄膜の低温成長－新しい結晶成長技術への期待－

[17p-A19-5] ポリカーボネート基板上に形成された低温多結晶シリコン薄膜の内部応力

^○河本直哉¹，只友一行¹，部家彰²，松尾直人² (山口大院理工¹，兵庫県立大院工²)

キーワード：多結晶シリコン