[18a-A22-1~12] 14.3 電子デバイス・プロセス技術

[18a-A22-2] 界面顕微光応答法によるNi/n-SiCショットキー接触の２次元評価

^○木原雄平，山本晋吾，塩島謙次 (福井大院工)

キーワード：SiCショットキー接触,2次元評価,障壁高さ