2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18p-A11-1~17] 6.4 薄膜新材料

2014年9月18日(木) 13:15 〜 18:15 A11 (E215)

18:00 〜 18:15

[18p-A11-17] 液相プロセスにおける酸化物ゲルへのUV照射によるパターン形成技術の開発

芳本祐樹1,永原幸児1,下田達也1,2,3 (北陸先端大1,JST-ERATO2,グリーンデバイス研究センター3)

キーワード:液相プロセス,UV照射,パターニング