[18p-PA7-1~16] 6.3 酸化物エレクトロニクス

[18p-PA7-2] Mist CVD法を用いて製作したα-Al2O3基板上Ga-In-O薄膜の評価

^○田沼圭亮¹，畠山匠¹，尾沼猛儀^1,2，山口智広¹，窪谷茂幸³，片山竜二³，松岡隆志³，本田徹¹ (工学院大工¹，東京高専²，東北大³)

キーワード：ミストCVD