PDF ダウンロード スケジュール 5 いいね! 1 13:30 〜 15:30 [18p-PB10-5] スパッタエピタキシー法によるSiGeバッファを用いた歪Si層形成技術 ○本橋叡1,広瀬信光2,笠松章史2,三村高志2,松井敏明2,塚本貴広1,須田良幸1 (東京農工大院工1,情報通信研究機構2) キーワード:半導体