PDF ダウンロード スケジュール 9 いいね! 0 10:15 〜 10:30 [19a-A16-4] 液浸ラマン分光法による選択的イオン注入により作製された一軸歪SiGe/Siの異方性2軸応力評価 ○山本章太郎1,小瀬村大亮1,富田基裕1,3,武内一真1,横川凌1,米倉瑛介2,澤野憲太郎2,野平博司2,小椋厚志1 (明治大理工1,東京都市大2,学振特別研究員DC3) キーワード:一軸歪,液浸ラマン分光法,選択的イオン注入